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日立X射線熒光光譜儀影響分析速度的因素
更新時間:2018-02-08   點擊次數:3736次

X-射線熒光光譜:作為一種比較分析技術,在較嚴格的條件下用一束X射線或低能光線照射樣品材料,致使樣品發射特征X射線。這些特征X射線的能量對應于各特定元素,樣品中元素的濃度直接決定射線的強度。該發射特征X射線的過程稱為X射線熒光或XRF.
 

X射線熒光光譜儀有兩種基本類型:波長色散型(WD-XRF)和能量色散型(ED-XRF)
 

一臺典型的XRF儀器的核心硬件包括X射線源與X射線探測器及多通道數字脈沖處理器。其中X射線源是提供激發樣品特征X射線的光源, X射線探測器檢測X射線光子的裝置,并能把它的能量按照光子的振幅比例來轉化為具有電子能量的脈沖,而多通道數字脈沖處理器則能夠將探測器轉化來的脈沖信號進行處理,從而得到X射線的能譜圖。
 
日立X射線熒光光譜儀EA1000AIII通過將可選項的精度管理型軟件進一步升級,并使之成為標準配備,實現了低價格化。與以往儀器相比,環境管制物質的測量時間大幅縮短,材料辨識功能、分析線切換功能、清晰易懂的操作面板……易用性大大提高,分析速度更快,操作更簡單。

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